、化妝品、食品生產(chǎn)的潔凈室要求

現(xiàn)代化妝品中大多含有蛋白質(zhì)、維生素

、氨基酸、植物萃取液等，這些成分為霉菌微生物的滋生、整殖提供了有利條件。因此，微生物的污染是影響化妝品質(zhì)量的重要因素，與食品生產(chǎn)環(huán)境相同。化妝品生產(chǎn)用潔凈室的空氣潔凈度等級可參照藥品的GMP規(guī)范進(jìn)行。

在食品工廠的生產(chǎn)過程中

，設(shè)施的嚴(yán)格管理是確保食品的衛(wèi)生，防止發(fā)生由于病原大腸菌、沙門氏菌造成的食品中毒或飲料中混入霉菌等的重要措施。20世紀(jì)90年代至今，WHO及一些發(fā)達(dá)國家引入HACCP(危害分析控制點(diǎn))系統(tǒng)，制定了利用衛(wèi)生管理生產(chǎn)過程的食品生產(chǎn)承認(rèn)制度。

5半導(dǎo)體、集成電路生產(chǎn)的潔凈室要求

半導(dǎo)體材料提純作為發(fā)展半導(dǎo)體器件的重要基礎(chǔ)

。由于大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的工藝要求，為得到高度的硅材料，原料和中間媒介的高度和生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度成為影響產(chǎn)品質(zhì)量的一個突出問題。

集成電路芯片的成品率與芯片的密度有關(guān)

，戀度與空氣中粒子個數(shù)有關(guān)。因此，集成電路的高速發(fā)展，不僅對空氣中控制粒子的尺寸有很高的要求，而且也需進(jìn)一步控制粒子數(shù):同時(shí)對于超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)環(huán)境的化學(xué)污染控制也有相關(guān)的要求。

與電子